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Bild- und Wellenoptik

Fachbereich 4.2

Aufgaben

Es gibt drei Aufgabenschwerpunkte im Fachbereich:

Form- und Wellenfrontmetrologie
Messung der Form optisch glatter Oberflächen und optischer Wellenfronten mit Unsicherheiten in der Größenordnung von Nanometern und Sub-Nanometern. Hinzu kommen Messaufgaben zur optischen Charakterisierung von optischen Komponenten und Materialien, u.a. Polarimetrie und Refraktometrie.

Optische Nanometrologie
Messung der Größe von Oberflächenstrukturen im µm- und Sub-µm-Bereich. Hierbei werden sowohl Lichtmikroskopie als auch Streulichtverfahren vom sichtbaren bis in den tiefen ultravioletten Spektralbereich eingesetzt.
Zusätzliche Aufgabe ist die Opens internal link in current windowGrößenmessung von Nanopartikeln mit der Rasterelektronenmikroskopie, die in Kooperation mit Fachbereich 5.2 Dimensionelle Nanometrologie bearbeitet wird.

Avogadro
Der Fachbereich arbeitet im Konsortium von metrologischen Staatsinstituten in einem internationalen Projekt zur Neubestimmung der Avogadrokonstanten auf der Basis von hochangereichertem 28-Silicium mit. Innerhalb dieses Projekts hat der Fachbereich das Teilprojekt „Präzisionsbestimmung des 28Si Gitterparameters“ übernommen. Die Übertragung der entwickelten Technologien auf Anwendungen in Industrie und Gesellschaft ist ebenfalls Teil seiner Aufgaben.

Für alle Aufgabenschwerpunkte werden Grundlagenuntersuchungen durchgeführt, Messverfahren entwickelt und Messungen und Kalibrierungen für Industrie und Wissenschaft ausgeführt. Forschungsprojekte werden oft in Zusammenarbeit mit der Industrie durchgeführt.

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