Herstellung von metallischen sub-µm-Strukturen
Lithographie mit dem Raster-Transmissions-Elektronen-Mikroskop (RTEM)
Mit Hilfe des RTEM können sehr schmale Linien mit Strukturbreiten < 10 nm erzeugt werden. Von Nachteil ist jedoch die aufwändige Präparation der dafür notwendigen Membransubstrate.
Transmissionselektronenmikroskopische Aufnahme einer 8 nm breiten Leiterbahn
Transmissionselektronenmikroskopische Aufnahme eines SET-Transistors