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Projekt

Auswerteverfahren für die EUV-Scatterometrie

06/2005 - 12/2007

Scatterometrie ist eine indirekte Messmethode zur Bestimmung von Oberflächenprofilen im Mikro- und Nanometerbereich, wie sie z. B.  auf Fotolithographiemasken auftreten. Im Rahmen des BMBF-Verbundprojektes ABBILD, wurde in Zusammenarbeit mit dem Weierstraß-Institut Berlin und zwei experimentellen PTB-Arbeitsgruppen ein mathematisches Auswerteverfahren entwickelt und die grundsätzliche Eignung der EUV-Scatterometrie zur Profilbestimmung nachgewiesen.

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