Auswerteverfahren für die EUV-Scatterometrie
06/2005 - 12/2007
Forschung
Scatterometrie ist eine indirekte Messmethode zur Bestimmung von Oberflächenprofilen im Mikro- und Nanometerbereich, wie sie z. B. auf Fotolithographiemasken auftreten. Im Rahmen des BMBF-Verbundprojektes ABBILD, wurde in Zusammenarbeit mit dem Weierstraß-Institut Berlin und zwei experimentellen PTB-Arbeitsgruppen ein mathematisches Auswerteverfahren entwickelt und die grundsätzliche Eignung der EUV-Scatterometrie zur Profilbestimmung nachgewiesen.
Partner
- PTB Arbeitsgruppe Höchstauflösende Mikroskopie
Weitere Informationen:
Inverses Problem in der Scatterometrie