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Physikalisch-Technische Bundesanstalt

FachabteilungenAbt. 5 Fertigungsmesstechnik5.2 Dimensionelle Nanometrologie5.22 Maskenmesstechnik > Literatur
Maskenmesstechnik
Arbeitsgruppe 5.22

Literaturliste:

2006-2007
Bodermann, Bernd ; Buhr, Egbert ; Diener, Alexander ; Dirscherl, Kai ; Ehret, Gerd ; Frase, Carl Georg ; Wurm, Matthias Aspects and new developments on edge angle and edge profile metrology at PTB. In: Archie, Chas N. (Hrsg.): Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXI. Bellingham, Wash. : SPIE, 2007 (Proceedings of SPIE: 6518), S. 65181X. - ISBN 978-0-8194-6641-9

Frase, Carl Georg ; Buhr, Egbert ; Dirscherl, Kai CD characterization of nanostructures in SEM metrology. In: Measurement Science and Technology. Bristol : Institute of Physics (IOP), 2007, S. 510 - 519. - URL: dx.doi.org/10.1088/0957-0233/18/2/S26; stacks.iop.org/MST/18/510

Frase, Carl Georg ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Dai, Gaoliang ; Bosse, Harald ; Novikov, Yu. A. ; Rakov, A. V. SEM linewidth measurements at anisotropically etched silicon structures smaller than 0.1 μm. In: Measurement Science and Technology. Bristol : Institute of Physics (IOP), 2007, S. 439 - 447. - URL: dx.doi.org/10.1088/0957-0233/18/2/S16; stacks.iop.org/MST/18/439

Richter, Jan; Heins, Thorben; Liebe, Roman; Bodermann, Bernd; Diener, Alexander; Bergmann, Detlef; Frase, Carl Georg; Bosse, Harald Calibration of CD mask standards for the 65 nm mode: CoG and MoSi; EMLC 2007: 23th European Mask and Lithography Conference EMLC; (Proceedings of SPIE: 6533), 2007, 65330S-1 - 65330S-10

Frase, Carl Georg ; Gnieser, Dominic ; Dirscherl, Kai ; Buhr, Egbert ; Bosse, Harald A new SEM CD operator verified against Monte Carlo simulations. In: Archie, Chas N. (Hrsg.): Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXI. Bellingham, Wash. : SPIE, 2007 (Proceedings of SPIE: 6518), S. 65184P. - ISBN 978-0-8194-6641-9

Ehret, Gerd ; Bodermann, Bernd ; Bergmann, Detlef ; Diener, Alexander ; Häßler-Grohne, Wolfgang Theoretical modelling and experimental verification of the influence of Cr edge profiles on microscopic-optical edge signals for COG masks. In: Martin, Patrick M. (Hrsg.): Photomask technology 2006 : [papers from the SPIE Conference on Photomask Technology, held as part of the 26th International Symposium on Photomask Technology]. Bellingham, Wash. : SPIE, 2006 (Proceedings of SPIE: 6349), S. 63494Y-1 - 63494Y-10. - ISBN 0-8194-6444-9 ; ISBN 978-0-8194-6444-6. - URL: dx.doi.org/10.1117/12.686824

Bodermann, Bernd ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Frase, Carl Georg ; Bosse, HaraldDevelopment, characterisation and application of CD photomask standards. 223. PTB-Seminar SEM Based Dimensional Metrology, Braunschweig, Germany, 12-13, December, 2006
In: Bosse, Harald (Hrsg.): SEM based dimensional metrology : 223rd PTB-Seminar in Braunschweig, Germany ; . Bremerhaven : Wirtschaftsverl. NW, 2006

Bodermann, Bernd ; Bosse, Harald ; Frase, Carl Georg ; Koenders, Ludger ; Wilkening, Günter Sensoren der Mikro- und Nanomesstechnik. In: Messtechnik für Mikro- und Nano-Engineering : Tagung Erlangen, 29. und 30. November 2006. Düsseldorf : VDI-Verlag, 2006 (VDI-Berichte: 1950), S. 99 - 108. - ISBN 3-18-091950-7

Gans, F.; Liebe, R.; Heins, Th.; Richter, J.; Häßler-Grohne, Wolfgang; Frase, Carl Georg; Bodermann, Bernd; Czerkas, Slawomir; Dirscherl, Kai; Bosse, Harald Systematic investigation of CD metrology tool response to sidewall profile variation on a COG test mask; EMLC 2006 : 22nd European Mask and Lithography Conference EMLC ; (GMM-Fachbericht: 49), 2006, 117 - 126

Dirscherl, Kai ; Slawomir, Czerkas ; Bosse, Harald ; Fuß, Hans-Joachim The Nanostation 300 - Development of an SPM for large objects. 7th Seminar on Quantitative Microscopy (QM) and 3rd Seminar on Nanoscale Calibration Standards and Methods, Nanoscale 2006, Bern-Wabern, Switzerland, 24-25, April, 2006
In: Berlin [u.a.] : VDE-Verlag, 2006

Haase, F.; Detemple, P.; Schmitt, D.; Lendle, A.; Haverbeck, O.; Doll, T.; Gnieser, Dominic; Bosse, Harald; Frase, Carl Georg Electron permeable membranes for environmental MEMS electron sources; 19th European Conference on Solid-State Transducers ; in: Sensors and Actuators A, 2006, 132, 98 - 103

Häßler-Grohne, Wolfgang ; Frase, Carl Georg ; Czerkas, Slawomir ; Dirscherl, Kai ; Bodermann, Bernd ; Buhr, Egbert ; Ehret, Gerd ; Wurm, Matthias ; Bosse, Harald Current developments in linewidth metrology at the PTB. In: Zervos, H. (Hrsg.): Proceedings of the 6th international conference, European Society for Precision Engineering and Nanotechnology : May 28th - June 1st, 2006, Baden bei Wien, Vienna. Vol. 1. Bedford : Euspen, 2006, S. 374 - 377. - ISBN 0-9553082-0-8 ; ISBN 978-0-9553082-0-8

Bosse, Harald ; Wilkening, Günter Dimensionelle Nanometrologie in der PTB - eine Übersicht = Dimensional nanometrology at PTB - a survey. In: Technisches Messen 73 (2006), Nr. 1, S. 4 - 18

Arnz, M. ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Bodermann, Bernd ; Bosse, Harald Calibration of test masks used for lithography lens systems. In: Behringer, Uwe (Hrsg.): EMLC 2006 : 22th European Mask and Lithography Conference EMLC. Berlin [u.a.] : VDE-Verlag, 2006 (GMM-Fachbericht: 49), S. 103 - 114 [print ed.]; ISBN 3-8007-2931-8 ; ISBN 978-3-8007-2931-9 ; ISSN 1432-3419

2004-2005
Machleidt, T. ; Franke, K.-H. ; Czerkas, Slawomir ; Dirscherl, Kai ; Bosse, Harald:   Analyse der Fehlerquellen und Verringerung der Störungsempfindlichkeit bei ausgewählten SFM-Sondenrekonstruktionsverfahren. In: Scharff, Peter (Hrsg.): Mechanical engineering for macro to nano : 50. Internationales Wissenschaftliches Kolloquium ; proceedings. Ilmenau : Verl. ISLE, 2005, S. 31 - 32; - ISBN 3-932633-98-9

Dersch, Uwe; Korn, Arnd; Engelmann, Cornelia; Frase, Carl Georg; Häßler-Grohne, Wolfgang; Bosse, Harald; Letzkus, Florian; Butschke, Jörg Impact of EUV mask pattern profile shape on CD measured by CD-SEM; Microlithography 2005 : (Proceedings of SPIE Vol5752) , 632 – 645, 2005

Häßler-Grohne, Wolfgang ; Frase, Carl Georg ; Czerkas, Slawomir ; Dirscherl, Kai ; Bodermann, Bernd ; Mirandé, Werner ; Ehret, Gerd ; Bosse, Harald:   Calibration procedures and application of the PTB photomask CD standard. In: Weed, J. Tracy (Hrsg.): BACUS Symposium on Photomask Technology 2005 and Photomask Japan. Bellingham, Wash. : SPIE, 2005 (Proceedings of SPIE on CD-ROM: 5992), S. 599240-1 - 599240-12

Frase, Carl Georg ; Häßler-Grohne, Wolfgang Use of Monte Carlo models in the development and validation of CD operators. In: Surface and Interface Analysis 37 (2005), Nr. 11, S. 942 - 950. - URL: dx.doi.org/10.1002/sia.2113

Czerkas, Slawomir ; Dziomba, Thorsten ; Bosse, Harald Comparison of different methods of SFM tip shape determination for various characterisation structures and types of tip. In: Wilkening, Günter (Hrsg.) ; Koenders, Ludger (Hrsg.): Nanoscale calibration standards and methods : dimensional and related measurements in the micro- and nanometer range. Weinheim : Wiley-VCH, 2005, S. 311 - 320. - ISBN 3-527-40502-X ; ISBN 978-3-527-40502-2

Gans, F.; Liebe, R.; Richter, J.; Schätz, Th.; Hauffe, B.; Hillmann, F.; Döbereiner, S.; Brück, H.-J.; Scheuring, G.; Brendel, B.; Bettin, L.; Röth, K.-D.; Steinberg, W.; Schlüter, G.; Speckbacher, P.; Sedlmeier, W.; Scherübl, T.; Häßler-Grohne, Wolfgang; Frase, Carl Georg; Czerkas, Slawomir; Dirscherl, Kai; Bodermann, Bernd; Mirande, Werner; Bosse, Harald Results of a round robin measurement on a new CD mask standard; EMLC 2005 : 21th European Mask and Lithography Conference EMLC (former EMC); (GMM-Fachbericht: 45), 2005

Wilkening, Günter ; Bosse, Harald Nano- and micrometrology – state-of-the-art and future challenges. In:  MAPAN 20 (2005), Nr. 2, S. 125 - 151

Frase, Carl Georg ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Buhr, Egbert ; Hahm, Kai ; Bosse, Harald Analysis and comparison of CD-SEM edge operators: a contribution to feature width metrology. In: Wilkening, Günter (Hrsg.) ; Koenders, Ludger (Hrsg.): Nanoscale calibration standards and methods : dimensional and related measurements in the micro- and nanometer range. Weinheim : Wiley-VCH, 2005, S. 385 - 403. - ISBN 3-527-40502-X ; ISBN 978-3-527-40502-2

Bosse, Harald; Wilkening, Günter Developments at PTB in nanometrology for support of semiconductor industry; Measurement Science and Technology, 2005, 16, 2155 - 2166

Dirscherl, Kai ; Koops, K. R.Traceable probing with an AFM. In: Wilkening, Günter (Hrsg.) ; Koenders, Ludger (Hrsg.): Nanoscale calibration standards and methods : dimensional and related measurements in the micro- and nanometer range. Weinheim : Wiley-VCH, 2005, S. 95 - 108. - ISBN 3-527-40502-X ; ISBN 978-3-527-40502-2

Frase, Carl Georg ; Czerkas, Slawomir ; Bosse, Harald ; Novikov, Yu. A. ; Rakov, A. V. Pitch and CD measurements at anisotropically etched Si structures in an SEM. In: Wilkening, Günter (Hrsg.) ; Koenders, Ludger (Hrsg.): Nanoscale calibration standards and methods : dimensional and related measurements in the micro- and nanometer range. Weinheim : Wiley-VCH, 2005, S. 375 - 384. - ISBN 3-527-40502-X ; ISBN 978-3-527-40502-2

Bodermann, Bernd ; Bosse, Harald ; Czerkas, Slawomir ; Frase, Carl Georg ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Mirandé, Werner Getting it together – model based optical, SEM and AFM CD metrology at PTB. 2nd IISB Lithography Simulation Workshop, Hersbruck, Germany, 17-19, September, 2004
In: Erdmann, Andreas (Hrsg.): Lithography simulation : [lectures, minutes and photos]. Erlangen : Fraunhofer IISB, 2004, S. 37 S.

Mirandé, Werner ; Bodermann, Bernd ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Frase, Carl Georg ; Czerkas, Slavomir ; Bosse, Harald Characterization of new CD photomask standards. In: Silver, Richard M. (Hrsg.): Metrology, inspection, and process control for microlithography XVIII : 23-26 February 2004. Bellingham, Wash. : SPIE, 2004 (Proceedings of SPIE: 5375,1), S. 29 - 40. - ISBN 0-8194-5288-2

Mirandé, Werner ; Bodermann, Bernd ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Frase, Carl Georg ; Czerkas, Slawomir ; Bosse, Harald Metrological characterization of new CD photomask standards. In: Behringer, Uwe (Hrsg.): EMC 2004 : 20th European Mask Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Micro-Components. Berlin [u.a.] : VDE-Verlag, 2004 (GMM-Fachbericht: 43), S. 167 - 173. - ISBN 3-8007-2811-7 ; ISSN 1432-3419

Häßler-Grohne, Wolfgang ; Dziomba, Thorsten ; Frase, Carl Georg ; Bosse, Harald ; Prochazka, J. Characterization of a 100 nm 1D pitch standard by metrological SEM and SFM. In: Silver, Richard M. (Hrsg.): Metrology, inspection, and process control for microlithography XVIII : 23-26 February 2004. Bellingham, Wash. : SPIE, 2004 (Proceedings of SPIE: 5375,1), S. 426 - 436. - ISBN 0-8194-5288-2

Flügge, Jens ; Köning, Rainer ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Dziomba, Thorsten ; Bosse, Harald Messtechnik an mikro- und nanostrukturierten Längenteilungen. In: PTB-Mitteilungen. Bremerhaven : Wirtschaftsverl. NW, Verl. für neue Wissenschaft, 2004, 114 , Nr. 1, S. 25 - 35. - ISSN 0030-834X

Frase, Carl Georg ; Bodermann, Bernd ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Czerkas, Slawomir ; Bosse, Harald ; Mirandé, Werner Metrologische Charakterisierung von neu entwickelten Photomasken-Strukturbreiten-Normalen. In: PTB-Mitteilungen. Bremerhaven : Wirtschaftsverl. NW, Verl. für neue Wissenschaft, 2004, 114 , Nr. 1, S. 36 - 43. - ISSN 0030-834X

Krüger-Sehm, Rolf ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Frühauf, J. Traceable calibration standard for the lateral axis of contact stylus instruments. In: Rosén, B.-G. (Hrsg.): Proceedings of the 9th Conference on Metrology and Properties of Engineering Surfaces. Halmstad : Univ., 2004, S. 7 - 14. - ISBN 91-631-5455-2

Bosse, Harald ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Flügge, Jens ; Köning, Rainer Results of the international line scale comparison Nano3. In: Proceedings of the 4th euspen International Conference : May 31st - June 2nd 2004, Glasgow, Scotland, UK. Bedford : European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, 2004, S. 274 - 275. - ISBN 1-861-94108-0

2002-2003
Bosse, Harald ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Flügge, Jens ; Köning, Rainer Final report on CCL- S3 supplementary line scale comparison Nano3. In: Metrologia 40 (2003), Tech. Suppl., 04002 [Online only]. - URL: www.bipm.org/utils/common/pdf/final_reports/L/S3/CCL-S3.pdf

Dziomba, Thorsten ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Bosse, Harald ; Danzebrink, Hans-Ulrich ; Wilkening, GünterInfluence of nanostandard properties on calibration procedures of SPMs. In: Weck, Manfred (Hrsg.) ; Kunzmann, Horst (Hrsg.): Euspen : international topical conference on precision engineering, micro technology, measurement techniques and equipment : proceedings. Vol. 2. Voerde : Rhiem, 2003, S. 491 - 494. - ISBN 3-926832-30-4

Bosse, Harald ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Flügge, Jens ; Köning, Rainer Line scale comparison Nano3. In: Decker, Jennifer E. (Hrsg.): Recent developments in traceable dimensional measurements II :. Bellingham, Wash. : SPIE, 2003 (Proceedings of SPIE: 5190), S. 122 - 133. - ISBN 0-8194-5063-4 ; ISSN 0277-786X

Dziomba, Thorsten ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Bosse, Harald ; Danzebrink, Hans-Ulrich ; Koenders, Ludger ; Wilkening, GünterInfluence of nanostandard properties on calibration procedures of SPMs. In: Gaponov, S. V. (Hrsg.): Scanning Probe Microscopy 2003: Proceedings ; International Workshop Scanning Probe Microscopy 2003, Nizhny Novgorod, March 2-5, 2003. Nizhny Novgorod : Institute for Physics of Microstructures RAS, 2003, S. 77 - 80; Bellingham, Wash. : SPIE, 2003

Frase, Carl Georg Untersuchungen zur Signalentstehung mittels Sekundärelektronen an Mikrostrukturkanten in einem Niederspannungs-Rasterelektronenmikroskop.Bremerhaven : Wirtschaftsverl. NW, Verl. für neue Wissenschaft, 2003. (PTB-Bericht PTB-F-46) ; Zugl.: Münster, Univ., Diss. - ISBN 3-89701-953-1 ; ISSN 0179-0609

Häßler-Grohne, Wolfgang ; Hahm, Kai ; Mirandé, Werner ; Bosse, Harald ; Arnz, Michael Calibration of test reticles for qualification of imaging properties of microlithographic projection lenses. In: Behringer, Uwe (Hrsg.): EMC 2002 : 18th European Mask Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Micro-Components München, Germany, 15-16, Januar, 2002; lectures held at the GMM-Conference. Berlin [u.a.] : VDE-Verlag, 2002 (GMM-Fachbericht: 36), S. 131 - 139. - ISBN 3-8007-2663-7 ; ISSN 1432-3419

Bosse, Harald ; Flügge, Jens ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Wendt, Klaus Dimensionelle Metrologie an mikrostrukturierten Längenmaßverkörperungen - Beiträge der PTB = Dimensional metrology on microstuctured material measures of length - contributions of the PTB. In: Technisches Messen 69 (2002), Nr. 12, S. 504 - 511

Bosse, Harald ; Flügge, Jens ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Wendt, Klaus:  High precision measurement of length and 2D-Coordinates at the PTB. In: The challenge of measurement interoperability : NCSL International annual workshop and symposium: Conference proceedings 2002. Boulder, Colo. : NCSL Intern., 2002, [CD-ROM] Dateiname: 7E2.pdf, S. 7 S.

Cao, Shizhi ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Brand, Uwe ; Gao, Sai ; Wilke, R. ; Büttgenbach, S. A three dimensional measurement system with micro tactile sensor. In: Optomechatronic systems III. Bellingham, Wash. : SPIE, 2002 (Proceedings of SPIE: 4902), S. 52 - 59. - ISBN 0-8194-4689-0 ; ISSN 0277-786X

Häßler-Grohne, Wolfgang ; Frase, Carl Georg ; Bosse, Harald Investigation of pitch standards for nanometrology in an metrological SEM. In: Delbressine, F. L. M. (Hrsg.): Proceedings of the 3rd International Conference [and 4th General Meeting of the] European Society for Precision Engineering and Nanotechnology. Vol. 2. Eindhoven : Universiteitsdr. TU Eindhoven, 2002, S. 617 - 620. - ISBN 90-386-2883-8

2000-2001
Bosse, Harald ; Häßler-Grohne, Wolfgang ; Tschirnich, Josef ; Flügge, Jens ; Bönsch, Gerhard ; Speckbacher, Peter ; Israel, Werner Design aspects of the international line scale comparison Nano3 [Poster]. In: Balsamo, A. (Hrsg.): Precision engineering, nanotechnology : proceedings of the Euspen 2nd International Conference, European Society for Precision Engineering and Nanotechnology. Vol. 1. Turin : Universiteitsdr. TU Eindhoven, 2001, S. 302 - 305

Häßler-Grohne, Wolfgang ; Frase, Carl Georg ; Mirandé, Werner ; Bosse, Harald PTB contributions to mask metrology. 159. PTB-Seminar: Requirements and recent developments in high precision length metrology, Braunschweig, Germany, 28-29, November, 2001
In: Bosse, Harald (Hrsg.) ; Flügge, Jens (Hrsg.): Requirements and recent developments in high precision length metrology : proceedings of the 159. PTB-Seminar ; . Bremerhaven : Wirtschaftsverl. NW, Verl. für neue Wissenschaft, 2001, S. 98 - 111

Bosse, Harald ; Mirandé, Werner ; Frase, Carl Georg ; Brück, H.-J. ; Lehnigk, S. Comparison of linewidth measurements on COG masks. In: Behringer, Uwe (Hrsg.): EMC 2000 ; 17th European Mask Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Micro-Components. Berlin [u.a.] : VDE-Verlag, 2000 (GMM-Fachbericht: 32), S. 111 - 119. - ISBN 3-8007-2587-8

weitere Literaturhinweise:

Zu Lithografie und Maskenmesstechnik allgemein:

ITRS-Roadmap: http://public.itrs.net/

McMillan, G.B.: Lithography Roadmap, the Role of the Mask Making Industry,
Critical Reviews of Optical Science and Technology, SPIE Proc. Volume CR 51, pp 3-10, 1994

Siebert, A.: "Finite-element calculations for mask-bending corrections"
VDI-Berichte 1243, Maskentechnik für Mikroelektronik- Mikrotechnik-Bauteile. Tagung.- Düsseldorf: VDI-Verl., 1995

Hantke, D., McCarthy, M., Hawryliw, A.: "The development of a two-dimensional photomask position standard"
Final report, CEC Contract number 3442/1/0/189/91/7-BCR-D(30), April 1995

Siebert, A: "Verbesserte Positionsbestimmung von Strukturen auf Photomasken"
PTB-Bericht F-24, 1996

Zum optischen Maskenmessgerät LMS:

W. Haessler-Grohne, H. Kunzmann, R. Probst: "PTB activities for the calibration of
two-dimensional length standards for microlithography".
8th Annual Symposium on Micro-Lithography, 21.-23.9.1988, San Jose, California

Hantke, D., Häßler-Grohne, W., Pieles, H.: "Vergleichsmessungen an einem 200 mm-Strichmaß"
PTB-Jahresbericht 1994, S. 200-201

Bosse, H., Häßler-Grohne W., Brendel B.:"About traceability, reproducibility and comparability
of grid calibrations", SPIE Conference Proceedings, Vol. 3873, 1999, pp. 477-483

Zum elektronenoptischen Metrologiesystem EOMS:

G. Schubert, H. Bosse, W. Häßler-Grohne: "Large X-Y-Stage for Nanometer Positioning in Electron Beam System". Proceedings of the 9th International Precision Engineering Seminar, Braunschweig, Germany, 1997

Häßler-Grohne, W., Bosse, H.: "Electron optical metrology system for pattern placement
measurements", Meas. Sci. Technol. 9, 1120-1128 (1998)

W. Mirandé, C. G. Frase: "Comparison of linewidth measurements on Si structures performed by Atomic Force Microscopy (AFM) and low voltage Scanning Electron Microscopy (SEM)", Proceedings Quantitative Microscopy (QM ´99), Kopenhagen, 1999

H. Bosse, W. Mirandé, C.G. Frase: "Comparison of linewidth measurements on COG masks",
Conference Proceedings "17th European Mask Conference EMC 2000", Munich Nov. 2000,
GMM Fachbericht 32, 111-119


© Physikalisch-Technische Bundesanstalt, letzte Änderung: 2010-03-25,  Seite drucken DruckansichtPDF-Export PDF