Physikalisch-Technische Bundesanstalt

B. Bodermann, Z. Li, F. Pilarski, D. Bergmann: "A 193 nm microscope for CD metrology for the 32nm node and beyond", Proc SPIE (2010)

M. Wurm, F. Pilarski, B. Bodermann: "A new flexible scatterometer for critical dimension metrology", Rev. Sci. Instrum. 81 (2010), 023701-1-023701-8

G. Ehret, F. Pilarski, D. Bergmann, B. Bodermann, E. Buhr: "A new high-aperture 193 nm microscope for the traceable dimensional characterization of micro- and nanostructures." Meas. Sci. Technol. 20 (2009), 8

B. Bodermann, E. Buhr, G. Ehret, Z. Li, F. Scholze, M. Wurm:  "Towards nanoscopy - optical metrology of nanostructures" [invited paper], Proc. of the 4th EOS Topical Meeting on Advanced Imaging Techniques, (2009), 40-41

M.-A. Henn, R. Model, M. Bär, M. Wurm, B. Bodermann, A. Rathsfeld, and H. Gross: "On numerical reconstructions of lithographic masks in DUV scatterometry", Proc. SPIE 7390 (2009), 73900Q-1-73900Q-11

B. Bodermann, M. Wurm: "Numerical investigations of prospects, challenges and limitations of non-imaging optical metrology of structured surfaces",  Proc. SPIE 7390 (2009), 73900R

Z. Li, F. Pilarski, D. Bergmann, Detlef; Bodermann, Bernd: "A metrological 193 nm DUV microscope for CD metrology", Proc. of the 4th EOS Topical Meeting on Advanced Imaging Techniques,  (2009), 42-43

B. Bodermann, M. Wurm, A. Diener, F. Scholze, H. Groß: "EUV and DUV scatterometry for CD and edge profile metrology on EUV masks", Proc. SPIE 7470 (2009), 74700F-1-74700F-12

Z. Li; F. Pilarski; D. Bergmann; B. Bodermann: "A 193nm optical CD metrology tool for the 32nm node" Proc. SPIE 7488, (2009), 74881J

B. Bodermann; D. Bergmann; E. Buhr; W. Hässler-Grohne; H. Bosse; J. Potzick; R. Dixson; R. Quintanilha; M. Stocker; A. Vladar; N. G. Orji: "Results of an international photomask linewidth comparison of NIST and PTB", Proc. SPIE 7488, (2009), 74881H-1-74881H-14

M. Wurm, A. Diener, B. Bodermann: "Comparative scatterometric CD and edge profile measurements on a MoSi mask using different scatterometers." Proc. SPIE 6792 (2008), 67920P

B. Bodermann, H. Bosse; " Model based reference metrology for dimensional characterization of micro- and nanostructures" ; Optoelectr. Lett. 4 (2008), 2, 81 - 85

M. Wurm, A. Diener, B. Bodermann, H. Gross, R. Model, A. Rathsfeld: "Versatile DUV scatterometer of the PTB and FEM based analysis for mask metrology", Proc. SPIE 6922 (2008), 692207-1-692207-10

G. Ehret, F. Pilarski, D. Bergmann, B. Bodermann, E, Buhr, W. Mirandé:  " Konstruktive Realisierung eines hochaperturigen 193nm-Mikroskops für die quantitative dimensionelle Charakterisierung von Mikro- und Nanostrukturen" ; Proc. DGaO (2008), nur online: www.dgao-proceedings.de/download/109/109_p34.pdf

H. Groß, R. Model, F. Scholze, M. Wurm, B. Bodermann, M. Bär, A. Radthsfeld: "Modellbildung, Bestimmung der Messunsicherheit und Validierung für diskrete inverse Probleme am Beispiel der Scatterometrie" Sensoren und Messsysteme 2008 : VDI-Bericht 2011 (2008), 337-346

R. Model, A. Rathsfeld, H. Groß, M. Wurm, B. Bodermann: "A scatterometry inverse problem in optical mask technology"; J. Phys. Conference Series: 135 (2008), 012071, 8 S.

B. Bodermann, E. Buhr, G. Ehret, F. Scholze, M. Wurm: "Optical metrology of micro- and nanostructures at PTB: Status and future developments", [invited paper] Proc. SPIE 7155 (2008), 71550V

J. Potzick, R. Dixson, R. Quintanilha, M. Stocker, A. Vladar, E. Buhr, W. Häßler-Grohne, B. Bodermann, C. G. Frase, H. Bosse: "International photomask linewidth comparison by NIST and PTB", Proc. SPIE 7122 (2008), 7122-97

M. Wurm: "Über die dimensionelle Charakterisierung von Gitterstrukturen auf Fotomasken mit einem neuartigen DUV-Scatterometer"; gen. Diss. Univ. Jena, (2008), X, 102 S.

J. Richter, J. Rudolf, B. Bodermann, J. C. Lam: "Comparative scatterometric CD measurements on a MoSi photo mask using different metrology tools"; Proc. SPIE 7122 (2008), 71222U-1-71222U-10

http://www.ptb.de/de/aktuelles/archiv/presseinfos/pi2008/pitext/pi080813.html